Sievers Boron Ultra在线超纯水分析仪

对硼进行连续在线监测，灵敏度高达万亿分之一 (ppt)

随着半导体芯片变得越来越小、越来越复杂，对高质量超纯水（UPW）的需求也越来越高。即使是极其轻微的污染也会导致严重的缺陷，因此，在微电子制造过程中及早发现杂质至关重要。

有何风险？产品产量、下游工艺和不必要的成本。

Sievers Boron Ultra分析仪可对超纯水工艺中的硼浓度进行连续、无人值守的在线监测，灵敏度高达万亿分之一（ppt）水平。这有助于符合初级和抛光环路规范，并使制造商能够优化离子交换 (IX) 树脂床再生的时间。硼监测是最积极主动的IX过程控制策略，效果远远优于二氧化硅或离子污染监测。

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优化在线性能和流程

Sievers Boron Ultra分析仪可显著降低运营费用，保持超纯水系统的质量。

Boron Ultra可在二氧化硅释放前检测到硼含量的增加，是防止胶体和离子二氧化硅渗漏到超纯水中的关键工具。它可以用来预测混合床IX树脂耗尽，优化电去离子（EDI）性能，并控制初级和抛光环路的污染水平。

Boron Ultra支持国际器件和系统路线图（IRDS）为半导体超纯水设定的50 ppt硼限值，支持硼和二氧化硅污染控制。

Sievers Boron Ultra是与半导体制造商合作设计的，旨在满足设备管理人员、超纯水系统所有者和超纯水工艺控制工程师的需求。硼监测是最为主动的离子交换过程控制策略，远远优于二氧化硅或离子污染监测。

万亿分之一 (ppt) 灵敏度
每小时20个数据点
符合初级和抛光环路规范
优化离子交换树脂再生
二氧化硅和硼污染控制

特点与优势
规格

特点与优势

Boron Ultra的特点与优势

对硼进行连续在线监测，灵敏度高达万亿分之一 (ppt)
每小时20个数据点
符合初级和抛光环路规范
符合UKCA和CE标志的所有要求
多流路选项 - 提供单流路和双流路
现代、直观的图形用户界面，配备多色LED背光10.1英寸触摸屏显示器
丰富的输出套件 - 两个独立的4-20 mA模拟输出；两个报警输出；两个独立的二进制输出；两个USB 2.0端口；一个千兆以太网端口
最少的维护与耗材需求

应用 - 半导体和微电子超纯工艺水 / 超纯水

污染控制
合规性
树脂再生的优化
过程控制

规格

Boron Ultra规格

运行规格
范围，ppm	0.010 - 100 ppb硼
定量限（LOQ）	0.030 ppb B
检测限（LOD）	0.010 ppb B
准确度	± 0.01 ppb B <0.03 ppb B ± 15%，≥ 0.03 ppb B
精确度	SD ≤ 0.003 ppb B，≤ 0.100 ppb B RSD ≤ 3%，> 0.100 ppb B
最小样品电阻率	15 MΩ–cm
样品温度	15°-40°C（59-104°F）
样品流速	50-400毫升/分钟
样品压力	103-689 kPa（15-100 psig）
校准稳定性	通常12个月
样品颗粒	15微米预过滤
废物	重力排放（无背压），排气
分析模式	在线、平均和在线定时
分析时间¹	3分钟或6分钟
分析仪规格
电源要求	100-240伏交流电，40瓦⁴，50/60赫兹
安全认证	CE、UKCA、ETL认证。符合UL Std. 61010-1。通过CSA 22.2 No. 61010-1认证。
显示	LED背光，10.1英寸，1280 x 800显示屏，带触摸屏
IP防护等级	IP 45
输入	3个隔离二进制输入
输出	2个隔离4-20 mA模拟输出⁵；2个报警输出；2个隔离二进制输出；2个USB 2.0端口⁶（一个外部，一个内部）；1 Gb以太网端口；
通信协议	Modbus TCP/IP
瞬态过电压	安装（过电压）II类（为测试和判断绝缘完整性，假定仪器环境污染等级为2）
尺寸	54.2 cm高 x 59.3 cm宽 x 38.8 cm深（21.35 in高 x 23.35 in宽 x 15.27 in深）
重量	空箱：21.75千克（48磅）；含耗材：23.1千克（51磅）
最小间隙（用于温度、湿度控制和访问）	正面：48.3 cm（19 in）；后面：2.5 cm（1 in）；侧面：每边 30.5 cm（12 in）；顶部：30.5 cm（12 in）；底部：分析仪支架提供桌面间隙。
可选配置	单流或双流（可选）
环境温度	10-40°C (50-104 °F)
海拔高度	设计用于高达2000 m（6561 ft）的海拔高度
最大相对湿度	最大95%，无冷凝
耗材
硼试剂	以3分钟采样率进行45天⁸；以6分钟采样率进行90天⁸
试剂柱	12个月
零柱	12个月
蠕动泵头	12个月