挑战
水是半导体制造的核心。这家位于德克萨斯州的晶圆制造商需要保证具有18 megohm-cm电阻率、品质极其一致的超纯水产品。他们需要每天24小时不间断供应超纯水的可靠性能，以确保在当今半导体行业保持竞争力所需要的高晶圆良率。
解决方案
借助Veolia EDI消除化学再生剂
在这个生产晶圆制造用超纯水的700 gpm设施中，Veolia EDI（图1）成为了关键组成部分。该设施由Veolia设计、建造和维护，每天24小时为客户提供可靠、不间断的性能——没有意外，无需担心生产力损失。由于Veolia EDI工艺采用的是电再生方式，因此不需要酸或苛性碱再生剂。Veolia EDI可去除RO预处理水中99%+的矿物质负载，包括二氧化硅、硼和CO2，处理过的水极为纯净。
对于这家终端用户而言，使用电力而非化学品进行脱盐具有重要优势，因为该流程不会产生再生废物，也没有相关的废物处理麻烦。而且，该系统所需要的占地面积仅为传统去离子（DI）系统的20%。
Veolia品牌意味着值得您信赖的质量。从PVDF管道到便捷的本地服务，Veolia注重一切细节。以下为项目概要。
项目概要
地点：德克萨斯州中部
投产时间：1997年2月
应用：用于水制备的超纯水
给水来源：谢尔曼市经Veolia EDR处理的市政水
给水水质：10-15 μS/cm
产品质量：18 megohm-cm电阻率
产能：700 gpm（2.7 m3 /h）
技术：反渗透（RO）和电去离子（EDI）